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这几年，科技竞争的加剧，阿美瑞肯对国内诸多科技企业一次又一次的限制，让原本对科技、对芯片制造并不关注的人瞬时明白了科技发展的意义，瞬时明白了芯片是什么，是怎么制造的等等等等。
科技竞争的进程，给所有人上了一堂半导体的科普课程。
尤其是去年ate60的突然发售，国产先进工艺芯片第一次在世人面前亮相，更是激发了别样的热潮。
不说业内人士和爱好者，就算什么都不懂的普通人，也都知道制造芯片的关键是光刻机了，甚至能头头是道的说一堆诸如duv、euv双重曝光四曝光等一批专业名词了。
而今天，赵军的一番话，十倍分辨率光刻一出来，恰逢其会，瞬间引起了轰动与聚变——了解了芯片制造是什么之后的人们更加能够体会其中的强大。
有人瞬间就意识到，这不一下子就赶上世界最顶尖的工艺了吗？2~3n！
“当然没有这么简单，宏图微电子的产线，实现极限十倍光刻是没错，但极限并不容易达到的。
“出于良率和效率的考量，那边的产线更多的还是在生产40n的芯片，少部分量产28n。至于极限22n，只是理论数据能达到。
“还有就是，工艺越先进，提升越困难，指望28n级别的光刻机实现28n的工艺是不可能的。顶多，能够达到euv5n的水准。”
此刻，有关产线的相关消息已经放在了明面上，过了保密期限，只要不涉及技术泄密，可以畅所欲言了。
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